美國對中興的一紙禁令,便輕而易舉的讓中興陷入絕境,泱泱大國,竟也擺脫不了對美的依賴。缺”芯”的命門顯露無遺,不禁讓我們深思,芯片真的那么難制造嗎?
并非所有的芯片都很難制造其實,并非所有的芯片都很難制造。如果你回家隨便拆開一個藍(lán)牙音箱、機頂盒、冰箱洗衣機,你便會發(fā)現(xiàn),里面的核心芯片大部分都是國產(chǎn)品牌。但不可否認(rèn)的是,這些芯片大多應(yīng)用于消費類領(lǐng)域。在對穩(wěn)定性和可靠性要求很高的通信、工業(yè)、醫(yī)療以及軍事的大批量應(yīng)用中,國產(chǎn)芯片跟國際一般水平相比,仍然還有很大差距。
為什么芯片很難制造?為什么芯片很難制造,原因主要有兩點:①試錯成本高;②排錯難度大。
1、試錯成本高
做一個app,可以一天一個版本,有bug也沒關(guān)系,第2天就可以修復(fù),試錯和修改的成本幾乎為零;
做一個電路板,設(shè)計時長在1-30天之間,生產(chǎn)周期在3-14天之間,出錯重新投板,試錯費用在幾百到幾千之間,最多數(shù)萬塊錢;
而做一個芯片,不算架構(gòu)設(shè)計,從電路設(shè)計到投片,最少半年;投片到加工,2-3個月;一次投片的費用最少也是數(shù)十萬元,先進(jìn)工藝高達(dá)一千萬到幾千萬。
如此高的試錯和時間成本,對成功率有著極高的要求,需要多個工種密切配合,延長流程,反復(fù)驗證,團隊中一個人出錯,3個月后回來的芯片可能就是一塊兒石頭。修改一輪,于是,又三個月過去了。
2、排錯難度大
互聯(lián)網(wǎng)編個軟件,調(diào)試程序可以在任意地方設(shè)置斷點,查看變量實時狀態(tài)或者做出記錄;
硬件電路板上,幾乎任何一根信號線都可以拉到示波器上看波形;
而一顆小小的芯片,上億個晶體管,能測量到的信號線卻只有十幾根到幾百根。憑借這少得可憐的信息,推理出哪個晶體管的設(shè)計錯誤,難度可想而知。
模仿也好,抄襲也罷,在互聯(lián)網(wǎng),我們有BAT可以和facebook/google過過招;在電子整機,我們有華為中興可以對抗思科愛立信;但在IT行業(yè)里,獨獨芯片,我們沒有跟美國抗衡的能力。
雖然芯片很難制造,但好在我們有一個華為。麒麟處理器已在華為手機上得到實現(xiàn),還是高端的類型,雖說暫時還拼不過高通,但也占據(jù)了一地之席。
君不見,十年前華為研發(fā)芯片的時候,我們對它嗤之以鼻,而今,它卻成了唯一的安慰。
為什么芯片很難制造?“試錯成本高”和“排錯難度大”便是最根本的因素,啥也不說了,中國加油!
你沒見過芯片制造,就別低估制造芯片的難度,除了沒有光刻機,還有更深層次的原因。
2020年,中國芯片進(jìn)口額3800億美元,占全部進(jìn)口商品的18%;華為Mate40系列手機,因芯片供應(yīng)受阻,被迫減產(chǎn)供貨。
看到這樣的消息,你或許會質(zhì)疑,連北斗導(dǎo)航、嫦娥五號這樣的頂尖科技,中國都實現(xiàn)了,為何偏偏做不出高端芯片?芯片制造真的這樣難嗎?
什么是芯片,有什么價值芯片是集成電路的簡稱,需要將數(shù)以億的晶體管,按照預(yù)先設(shè)計的電路圖,有序地實現(xiàn)布局。
芯片的出現(xiàn),讓電路的小型化成指數(shù)級發(fā)展,不僅讓電子設(shè)備的體型更小,而且運算速度更快、耗能更低、可靠性更強。
我們可以做一個簡單的對比,1964年,美國造出了世界第一臺電子計算機,這個大家伙占地170平方米,比你家的房子還要大。
這臺被命名為“埃尼阿克”的計算機,裝有18000個電子管,每秒可運行5000次。
而如今一臺普通的智能手機,雖然只有手掌這么大,但手機的內(nèi)核芯片,晶體管的數(shù)量已多達(dá)數(shù)十億個,運算速度高達(dá)數(shù)十億次。
芯片被廣泛地應(yīng)用到智能手機、電腦、汽車,甚至衛(wèi)星和火箭上。芯片的出現(xiàn),為很多行業(yè)都帶來了顛覆性的影響,也改變了現(xiàn)在人類的生活方式。
尤其是運算速度高達(dá)每秒億億次的超級計算機,發(fā)揮其運算速度的優(yōu)勢,能實現(xiàn)很多數(shù)據(jù)模擬和運算,而其價值的核心,就是芯片的完美呈現(xiàn)。
既然芯片如此重要,而且應(yīng)用前景廣泛,具備很強的科技和使用價值,為何我們自己卻造不出高端芯片呢?
芯片制造,全是黑科技提到芯片,你可能會首先想到晶圓,這種用于芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵原材料。不少人對晶圓有誤解,不就是一堆沙子提純嗎,應(yīng)該不會太難。
原理沒有錯,但芯片需要的純度,卻格外苛刻。之所有選擇利用沙子提純,得到生產(chǎn)芯片的晶圓,是因為硅是一種很好的半導(dǎo)體材料,而沙子的主要成分是二氧化碳,正好富含硅元素,而且價格便宜。
目前全球有能力生產(chǎn)晶圓的企業(yè)中,排在前十的僅有中芯國際一家,而且中芯國際目前僅能生產(chǎn)12寸晶圓。
排在前三位的,分別是韓國的三星、臺灣省的臺積電和美國的美光科技。僅憑中芯國際的產(chǎn)能,很難撐起國內(nèi)半導(dǎo)體市場的巨大需求,目前晶圓的國產(chǎn)化率僅1%左右。
不過也有好消息,上海上海硅產(chǎn)業(yè)、中環(huán)股份已有能力生產(chǎn)12英寸的硅材料,相信晶圓的國產(chǎn)化也能很快到來。
石油不夠可以進(jìn)口,晶圓同樣可以花錢買到,但紛繁復(fù)雜的芯片制造過程,才是芯片制造的核心技術(shù)。
沙子在經(jīng)過凈化和提純后,會首先去除里面的鎂、鈣等雜質(zhì),隨后加入碳進(jìn)行還原,得到相對純凈的硅。
此時的硅純度只能達(dá)到90%左右,依舊不能作為芯片的原材料。提純之后,硅材料還要再次經(jīng)過生產(chǎn)、成型等工藝,最終得到純度高達(dá)99.9999%的高純度硅棒。
有了硅棒之后,接下來就需要切片,就像切土豆片一樣,需要將高純度的硅棒切成薄片。
不過晶圓的切片,比切土豆要難太多,至于切片的過程,這里不做過多的分析,你只需要知道,晶圓需要被切割為厚度僅厚0.5-1.5mm的薄片。
經(jīng)過切片之后,就能得到一張像光盤一樣的單晶硅片,由于芯片的制造是納米級,此時還需要對單晶硅片進(jìn)行拋光處理。
拋光后的硅片,其表面平整度不能低于0.2納米,即便是在顯微鏡下,硅片的表面依然光滑靚麗。
擁有了單晶硅片,芯片的制造才算正式開始,硅元素本身是一種半導(dǎo)體材料,芯片需要在硅片表面,形成數(shù)以億計的電路和晶體管,為了避免相互干擾,此時需要對硅片進(jìn)行二次處理。
單晶硅片的表面,需要分次鋪上一層二氧化硅和氧化氮,為了保證均勻分布,往往采用真空沉淀法。接下來,就要用到芯片生產(chǎn)的另一種關(guān)鍵輔助材料,俗稱光刻膠。
按字面意思理解,其實就是一種特殊的膠水,這種膠水在紫外線的照射下,會變得容易溶解,但在顯影液中,它卻又極其穩(wěn)定,光刻膠在芯片電路的印刻中,發(fā)揮了很好的阻隔作用。
光刻膠目前也是國產(chǎn)芯片技術(shù)的難點,國產(chǎn)化率不足10%,而且光刻膠還分為i線光刻膠、KrF光刻膠、G線光刻膠等數(shù)個類別。
飛凱材料、南大光電、晶瑞股份這些企業(yè),目前都在聚焦光刻膠的研發(fā),為光刻膠的國產(chǎn)化努力。
涂上光刻膠的單晶硅片,依然是一片空白,接下來就需要將設(shè)計好的芯片電路圖,印刻到硅片上。
芯片設(shè)計雖然是半導(dǎo)體行業(yè)的難點,不過海思半導(dǎo)體已提前攻克相關(guān)技術(shù),具備世界一流的芯片設(shè)計技術(shù),這里讓我們再次為華為點個贊。
芯片上的電路錯綜復(fù)雜,憑人工印刻,幾乎沒有辦法實現(xiàn),即使在顯微鏡下手工刻制電路,產(chǎn)品的良率和效率都沒法保證。
芯片制造中,采用的是光刻法,就是利用光線沿直線傳播的固有特性,將電路圖繪制到硅片表面。
不少人對日本的半導(dǎo)體發(fā)展歷程都有些了解,你也必然聽說過索尼、佳能這些相機企業(yè),其實他們都曾為日本半導(dǎo)體的發(fā)展,做出了很大貢獻(xiàn),這其中的關(guān)鍵就是對光刻技術(shù)的貢獻(xiàn)。
光刻就是利用掩膜和透鏡,將電路圖投射到硅片表面,這個過程有點像過去的投影儀,只不過設(shè)計會更加復(fù)雜。
掩膜分為透明和不透明,當(dāng)紫外線照射到掩膜表面,通過透鏡將電路圖的比例縮小,這樣一張完整的電路圖,就完美地投射到硅片表面。
順便提一下,光掩膜的國產(chǎn)化率也并不高,大約20%左右。
前面提到,光刻膠在遇到紫外線后,會變得很容易溶解,這樣沒有被掩膜遮擋的部分,就不會受到紫外線的照射,光刻膠就能完好保留。
而當(dāng)紫外線經(jīng)過透明部分的掩膜后,會直達(dá)硅片表面,與這部分區(qū)域的光刻膠直接接觸。經(jīng)過紫外線的照射,硅片表面形成了兩種狀態(tài),一種是被紫外線照射過的光刻膠表面,另一種則是沒有被紫外線照射過的光刻膠表面。
再將硅片放置到顯影液中,被紫外線照射過的光刻膠,會迅速分解,這樣硅片表面有一部分的光刻膠就會被溶解。
此時的硅片表面,又會變成兩種狀態(tài),一種覆蓋有光刻膠,而另一種則沒有光刻膠,但整個過程都是在按芯片設(shè)計的規(guī)劃進(jìn)行。
接下來的過程將變得更加微觀和細(xì)膩,清洗掉顯影液和雜質(zhì)后,硅片將被投放到一種腐蝕液中。
腐蝕液能快速溶解二氧化硅和氧化氮,但是光刻膠卻又能很好的阻擋腐蝕液,經(jīng)過腐蝕液的腐蝕后,硅片表面沒有光刻膠覆蓋的部分,硅會直接顯露在表層。
為了起到絕緣的作用,此時會再將鍍上一層二氧化硅。經(jīng)過這些復(fù)雜的供需,芯片表面會形成有規(guī)律的凹凸不平,在進(jìn)行粒子注入,填充凹下去的部分,芯片制造的光刻環(huán)節(jié)基本完成。
此時的芯片還不具備實用性,隨后技術(shù)人員會將二氧化硅上開槽,并將銅和鎢作為各個晶體管之間的導(dǎo)線。
就如同蓋房子的管道一樣,這些連接線會將數(shù)以億計的晶體管相連,并具備電流連通性。
到這里,芯片的一層電路就完成制造,現(xiàn)在的芯片往往多達(dá)數(shù)層電路,后面的原理很簡單,只需不斷重復(fù)上面的操作即可。但電路層數(shù)越多,對芯片的制造要求就越高,原理相同,考驗的是制造的精度。
完成所有電路的刻蝕后,將晶圓切割為需要的大小,并將引腳連接,用蓋子封裝起來,一塊完整的芯片,才算制造完成。
芯片的制造原理并不復(fù)雜,但每道工序?qū)夹g(shù)和設(shè)備的要求都極為苛刻,曾有一種說法,即便把圖紙給中國,我們也造不出光刻機,如此看來并不是完全沒有道理。
芯片的整個制造過程中,最受關(guān)注的就是光刻機,也就是荷蘭的ASML生產(chǎn)的設(shè)備,目前國產(chǎn)光刻機成品基本處于空白狀態(tài)。我們也想買,可以別人不愿意賣,那就只能靠自研技術(shù)來解決。
目前全球先進(jìn)的光刻機,大多被三星、臺積電買走,為什么會賣給臺積電。其實道理很簡單,臺積電是ASML的股東之一,有優(yōu)先供貨權(quán)。
國產(chǎn)芯片,只是時間問題看到這里,你腦子里或許只剩下一個概念,芯片制造太難了,別說沒有光刻機,即便有了光刻機,也不一定能造出芯片。
先別著急否定自己,雖然芯片制造很難,我們也有很多短板,但我國依然是半導(dǎo)體行業(yè)佼佼者,除了中國,目前依然能在芯片制造領(lǐng)域突飛猛進(jìn)的,恐怕很難再找出第二個。
在過去的2020年,半導(dǎo)體行業(yè)投入1400億元,中芯國際、海思半導(dǎo)體等國產(chǎn)科技企業(yè),依然在不竭余力地聚焦芯片制造。
有消息認(rèn)為,中國將在2025年,基本實現(xiàn)芯片國產(chǎn)化,從此芯片將不再成為痛點,而將成為新的科技發(fā)展點和經(jīng)濟動力源。
芯片國產(chǎn)化后,手機和電腦將更加便宜,迭代速度將更快,再也不會出現(xiàn)高端手機,一機難求的局面,這樣的盛況,你期待嗎?
在2018年的芯片危機,以及美國對中興和華為的找茬,讓我們認(rèn)識到了芯片的巨大價值,以及我國在芯片制造領(lǐng)域與美國的巨大差距。芯片真的很難制造嗎?是的,非常難制造。
1、巨大的研發(fā)成本和投入芯片的投入非常巨大,而且時間非常的長,高通成立幾十年在2017年的研發(fā)投入還有近90億美元,也就是600億人民幣,連續(xù)投入了幾十年。
芯片領(lǐng)域做的比較好的國產(chǎn)品牌華為,在2017年整體研發(fā)成本也是有900億,分到芯片上的投入也是百億水平。
無論是國家支持,還是風(fēng)投支持,都很難持續(xù)的投入巨資來發(fā)展。
2、芯片研發(fā)難度太高芯片研發(fā)難度也非常高,而且無法跨越式發(fā)展,這就形成了一步落后步步落后的現(xiàn)狀。只有攻破每個技術(shù)難題才有可能做出最新的芯片,這是最難的,所以別看高通已經(jīng)做了7nm芯片,我們開始做芯片還要從40nm開始做,難度非常高。
3、芯片很難盈利芯片領(lǐng)域除了高通,聯(lián)發(fā)科,華為,蘋果,三星,本來也有其他的玩家,但是芯片太難盈利了,只有做成細(xì)分領(lǐng)域最好的才能發(fā)展。
而且芯片賣的越多才能攤平成本,否則就會持續(xù)虧損,這對于新玩家,是巨大的難度。
不過好在我們有華為芯片,代表中國芯片先進(jìn)性。
你認(rèn)為華為芯片有可能超過高通芯片嗎?